2023年末，与ASML签署了一项价值1万亿韩元的合同，两边将在韩国京畿说念东滩投资建树半导体芯片洽商顺次，共同死力编削EUV光刻制造期间迪士尼彩乐园为人类2，同期三星还赢得了High-NA EUV光刻开辟期间的优先权。不外客岁三星DS（开辟措置决策）部门更换新认真东说念主，审查正在进行的技俩和投资，立时传出可能减少High-NA EUV光刻机的采购数目。
据TrendForce报说念，三星照旧在本月初在其华城园区引入了首台ASML制造的High-NA EUV光刻机，型号为“TWINSCAN EXE:5000”，据说价钱达到了5000亿韩元（约合3.44亿好意思元/东说念主民币24.95亿元）。三星也成为了（2023年末）和台积电（2024年第三季度）之后，第三家安设High-NA EUV光刻机的半导体制造商。
按照之前的说法，迪士尼彩乐园总代理这台High-NA EUV光刻机主要用于期间研发，瞻望2025年中开动使用。三星已决定开发用于逻辑和DRAM芯片的下一代半导体制造工艺，一些期间需要通过High-NA EUV光刻机结束。此外，三星还与Lasertec、JSR、Tokyo Electron和Synopsys合营，打造High-NA EUV生态系统。
High-NA EUV光刻机是具有高数值孔径和每小时坐褥高出200片晶圆的极紫外光无数目坐褥系统，用于制造3nm以下的芯片。其提供了0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统比较，精度会有所莳植，不错结束更高区别率的图案化，以结束更小的晶体管特征。
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